液晶・OLEDディスプレイ製造用加熱装置 MKシリーズ
MKシリーズは、FPD向けプロセス装置として従来のMBシリーズ250℃、MTシリーズ350℃よりも高い温度域に対応し450℃までの高温域で、ガラス基板の熱処理を可能にした最新の縦型枚葉多段加熱装置です。
アモルファスシリコンよりも10倍以上高速なキャリア速度を可能にする酸化物TFTプロセス（IGZO、CAAC、TAOS）、更に高速な多結晶シリコンプロセス（LTPS、CGS）やOLED（有機ELパネル）向けの各種アニール加熱に最適で、タブレットやスマートフォン向け用途のみでなく、大型4Kテレビ向けのプロセス装置として注目されています。
（450℃ G4.5 5段仕様）
特徴
450℃の温度域では、基板支持方法や使用する材料によっては基板裏面に傷などの欠陥を発生させる場合や、基板収縮（コンパクション Glass Compaction）などの課題が指摘されています。
弊社では、お客様のご要望をお聞きしながら、最適な基板支持方法や温度制御など最適なソリューションを提案させていただきます。
遠赤外線加熱（IR加熱）技術により、パーティクルや静電気発生の心配がないハイクリーン環境（CLASS100）を実現し、製品の歩留まり向上に貢献いたします。
多結晶シリコンプロセス（LTPS）においては450℃よりも更に高い500℃域のご要求もありMKシリーズのハイスペック仕様として、温度500℃±2℃で耐熱性・高温耐久性・安全性及び、基板ダメージに配慮した昇温・降温温度コントロールを付加した装置提案も致します。
用途
脱水素アニール、水素化アニール、酸化物TFTアニール、多結晶化アニールなど
当社では、FPD向け高温プロセス評価用実験装置を保有しており、お客様の幅広いニーズに対応するために実験をお受けいたします。詳細についてはお問い合わせ下さい。