製品情報

液晶・OLEDディスプレイ製造用加熱装置  MTシリーズ

350℃までの液晶およびOLEDパネル製造工程に使用できる遠赤外線(IR)方式枚葉多段加熱装置です。

特徴

MTシリーズは、従来のMB/MSの特徴を継承し、更に350℃までの温度域に対応いたしました。
250℃を超える温度域では、基板支持方法や使用する材料によっては基板裏面に傷などの欠陥を発生させる場合がありますが、お客様のご要望をお聞きし最適な基板支持方法を提案させていただきます。
遠赤外線による放射加熱を熱源としているので、熱風炉のように風を送る事によって発生するガラス基板の炉内での揺れやばたつきによる、摩擦傷の発生や静電気の発生は有りません。
アモルファスシリコンに代わるプロセスとして、現在注目されているIGZOなどの酸化物TFTプロセスのためのアニール処理に最適です。

メモ:酸化物TFT技術とは、従来のアモルファスシリコンの生産ラインに最小の設備投資で電子移動度が10倍以上の高性能の液晶パネルを、製造出来るため世界中のパネルメーカに注目されている技術でタブレット端末や、スマートフォンへの普及が進んでいます。

用途

酸化物TFTアニール、特性改善アニール、封止アニール


  • 基板指示部・炉口イメージ