液晶ディスプレイ製造用加熱装置MB・MSシリーズ
当社が世界で初めて開発した液晶パネル製造用
遠赤外線(IR)方式枚葉多段加熱装置です。
世界の液晶パネルプレイヤーに、
ご愛用をいただいております。
特徴
基板サイズ：小さなサイズからG10程度までの基板サイズに対応いたします。
使用雰囲気：大気(CDA)や窒素（N2）を予熱ヒータで加熱し各チャンバー内に供給し、当社特許によるシャッター構造によって外気を遮蔽します。（特許番号：3614748号）
クリーン度：米国連邦空気清浄度基準 クラス10まで対応可能でパーティクル発生が非常に少ない構造です。（熱風式加熱炉に対して）
スキップ運用：各段が独立チャンバー（スロット：Slot）構造で、不具合が発生した段をスキップ運用できるので、他段には影響を及ぼさない生産性の高い装置です。
独自雰囲気制御：当社独自のチャンバー内雰囲気コントロールを行い、焼成(アニール)プロセス中に発生する不要な昇華物やガスをチャンバー内から確実に排気します。（特許番号3961912号）
バインダートラップオプションを装備すれば、排気ガスに含まれる不純物質を固化し、適切に処理する事ができるので工場設備の保全や環境対策になります。
ピーク電力制御：昇温時のピーク電力を抑えます。又、優れた断熱構造によって排出熱も削減できますので二酸化炭素排出量削減にもなります。
高性能遠赤外線ヒータ：各チャンバーには、当社独自の高放射率（ε＝0.85以上）を誇る特殊処理を施した遠赤外線ヒータを配置し、高速で均一な加熱特性を有し、熱履歴の再現性にも優れています。
温度制御は、多段加熱炉構造のため各チャンバー毎に、細かな設定が可能で熱処理されるガラス基板の品質バラツキを抑えます。
省スペース：世界で初めて（1992年）当社が設計した縦型多段加熱炉構造により、従来の横型加熱炉の1/3以下の省スペース化により工場面積の削減に貢献いたします。
基板支持：各チャンバー内には、熱処理されるガラス基板を適切に保持し、裏面に傷などの欠陥を与えないよう基板支持部が設計されています。
用途
配向膜焼成・配向膜塗布前洗浄乾燥・ラビング後洗浄乾燥・シール材硬化
各種アニール・レジスト乾燥および焼成・有機膜焼成
ITOアニール・ITO結晶化