製品情報

急速昇高温熱処理炉(RTP)

主にMLCC(積層セラミックスコンデンサ)の焼成(焼結)を⽬的に開発中のRTPです。
MLCCの他に熱容量の⼩さい⼩型電⼦部品の熱処理への対応も考慮しています。

特許

登録番号:特許第5877920号(登録⽇) 平成28年(2016年) 2⽉5⽇
発明の名称:急速昇降温熱処理炉

特徴

評価状況:Pre評価機にて凡そ下記を評価中です。
最⾼温度:評価温度︓1200℃ /⽬標温度︓1300℃
昇温レート:評価昇温レート(室温→1200℃)︓120,000℃/h
⽬標昇温レート(室温→1200℃):180,000℃/h
降温レート
現状ではほぼ⾃然冷却的な降温です。
将来的には⽔冷と空冷の組み合わせで降温させます。
・1200℃→750℃の平均的降温レート:9000℃/h
・1200℃→500℃の平均的降温レート:6000℃/h
熱処理雰囲気:N2 Base 0.3%H2
圧⼒:3 Pa
酸素濃度:0 ppb (TORAY LC-860 酸素濃度計検出限界以下)

用途

MLCC、⼩型電⼦部品など